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本实用新型公开了一种光刻用真空基片夹具,涉及半导体制备技术领域,包括一个可与基片紧密贴合的真空载物台;载物台内设有N组真空吸附结构;真空吸附结构在载物台平面上的投影面积小于待吸附基片的面积;真空吸附结构包括沿真空载物台厚度方向设置的M个真空孔,真空孔为通孔;相邻的真空孔之间通过设在真空载物台内部的真空槽相连通;载物台底部设有与真空吸附结构配套的N个真空吸盘;真空吸附结构的底部被对应的真空吸盘覆盖;真空吸盘与载物台相接处密封;每个真空吸盘的根部中心设有一根真空管,N个真空管由设在末端的一个共同的真空总开关控制。该基片夹具不仅便于调整基片位置、且能够一机多用,提高夹具利用率、降低成本。