[00005476]基于紫外光刻技术的反射式光栅的制作方法
技术详细介绍
本发明公开了一种基于紫外光刻技术的反射式光栅的制作方法，是一种高效，高精度，高分辨率的光栅制作方法，该光栅以二氧化硅为基底，在基底上设有多个平行的楔形反射式面，整个光栅表面镀银，以提高反射效果。制作过程中主要应用了倾斜光刻来制作楔形反射面，通过控制掩模板的大小和形状可以制作任意尺寸的光栅器件。由于单次生产出来的是大型的光栅，可以通过切割获得成片光栅，从而达到单片光栅的利益最大化。同时，紫外光刻法不会产生鬼线和伴线，不存在刻划光栅刻槽的微观不规则或者毛刺缺陷。即便在加工过程中出现了这些缺陷，在后面的质量检测中也可以将不合格片丢弃，保留合格的光栅出厂。
