X为了获得更好的用户体验,请使用火狐、谷歌、360浏览器极速模式或IE8及以上版本的浏览器
关于我们 | 帮助中心
欢迎来到天长市科技大市场,请 登录 | 注册
尊敬的 , 欢迎光临!  [会员中心]  [退出登录]
成果 专家 院校 需求
当前位置: 首页 >  科技成果  > 详细页

[00051084]适用于纳米级三维形貌测量的远场矢量光学特性建模方法

交易价格: 面议

所属行业: 检测仪器

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201510364705.6

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 华中科技大学

进入空间

所在地: 湖北武汉市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

摘要:本发明公开了一种适用于纳米级三维形貌测量的远场矢量光学特性建模方法,包括获得探测样品近场处的矢量电磁场分布,并经由采用高NA物镜的偏振光学系统执行传播,由此依次执行近场至入瞳、入瞳至出瞳,以及出瞳至探测平面的传播过程;将近场处的矢量电磁场分布转换为入瞳处的矢量电场分布,接着将入瞳处的矢量电场分布相应转变为出瞳处的矢量电场分布;计算得出最终探测平面的矢量电场分布。以上过程还可包括根据琼斯矩阵理论,获得探测样品在不同入射角下的穆勒矩阵分布的步骤。通过本发明,能够以便于操控、高灵敏度和高测量精度的方式实现对纳米级三维形貌特征的测量,并尤其适用于微电子集成电路或微机电系统之类的应用场合。

推荐服务:

Copyright  ©  2019    天长市科技大市场    版权所有

地址:滁州高新区经三路

皖ICP备2023004467