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摘要:本发明公开了一种铜-金刚石复合镀层及其制备方法。所述复合镀层从下到上由铜镀层、铜-金刚石复合上砂镀层和铜加固层组成。制备方法包括以下步骤:在工件表面先用电镀法沉积铜镀层,然后在铜镀层的表面沉积铜-金刚石复合上砂镀层,最后在铜-金刚石复合上砂镀层的表面沉积铜加固层,即得到铜-金刚石复合镀层。该铜/金刚石复合镀层体积密度含量高,分散均匀,可用作CVD在铜基体上沉积金刚石薄膜的底层,沉积出的CVD金刚石膜具有镶嵌结构界面,提高CVD金刚石膜/铜基界面结合力。