交易价格: 面议
所属行业: 其他电气自动化
类型: 实用新型专利
技术成熟度: 正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201420368773.0
交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股
联系人: 华南理工大学
所在地: 广东广州市
摘要:本实用新型公开了生长在W衬底上的LED外延片,包括生长在W衬底上的AlN缓冲层,生长在AlN缓冲层上的非掺杂GaN层,生长在非掺杂GaN层上的n型掺杂GaN薄膜,生长在n型掺杂GaN薄膜上的InGaN/GaN量子阱,生长在InGaN/GaN量子阱上的p型掺杂GaN薄膜。本实用新型的LED外延片缺陷密度低、结晶质量好,电学、光学性能好。
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