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[00055053]一种双层有源层结构的薄膜晶体管及其制备方法

交易价格: 面议

所属行业: 其他电气自动化

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201710537847.7

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 华南理工大学

所在地: 广东广州市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

摘要:本发明属于显示器件技术领域,公开了一种双层有源层结构的薄膜晶体管及其制备方法。所述薄膜晶体管由依次层叠的衬底、栅极、栅极绝缘层、有源层和源/漏电极构成;所述有源层由一层绝缘体层和一层半导体层构成,其中半导体层靠近栅极绝缘层;所述的绝缘体层材料为具有绝缘特性的二元氧化物AO,半导体层为具有半导体特性的四元氧化物BCDO,其中A、B、C、D代表不同的金属元素。本发明采用不同的两种氧化物堆叠起来而成为薄膜晶体管的有源层,能够在室温下通过磁控溅射方式制备,制备工艺简单,且不需要退火处理,所得薄膜晶体管具有高迁移率、高稳定性。

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