交易价格: 面议
所属行业: 化工生产
类型: 发明专利
技术成熟度: 正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201710413970.8
交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股
联系人: 吉林大学
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所在地: 吉林长春市
摘要:本发明公开了一种带隙可调的BN(Al)薄膜材料的制备方法,本发明通过Al掺杂的方法实现对六方BN带隙更自由的调控,增加其紫外光的吸收范围,其制备方法通过选择富硼的氮化硼靶材,在溅射过程中对衬底施加高偏压诱导出大量的N空位缺陷,同时通过共溅射使Al原子进入薄膜中N空位缺陷处,实现带隙可在较宽范围内调控的新型BN(Al)薄膜半导体材料。本发明中BN(Al)薄膜半导体材料采用射频共溅射法获得,工艺简单且效率高,可用于波长可调的发光器件,近紫外光吸收材料或光探测器件。
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