交易价格: 面议
所属行业: 其他电气自动化
类型: 发明专利
技术成熟度: 正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201410837859.8
交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股
联系人: 上海师范大学
所在地: 上海上海市
摘要:本发明公开了一种Sb/Si异质结构半导体纳米晶薄膜及其制备方法与应用,其方法是在晶硅片上,生长一层10nm-100nm厚的非致密的纳米晶薄膜,经热处理纳米晶薄膜与电池片光照面结合牢固,形成异质结构,这种Sb/Si异质结容易在界面形成n型活化层,具有独有的物理效应,可应用于成品及半成品硅基太阳能电池片的增效处理,可以明显提高晶硅电池的光电转换效率。本发明飞方法工艺简单、成本低廉、节能环保、快速高效,适合工业化生产。
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