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摘要:本实用新型涉及一种基片控温系统
所述基片控温系统包括:真空腔室;用于放置基片的样品台,设置在所述真空腔室内,且包括用于对所述基片进行加热的加热器;与所述样品台连接的循环管道,包括入口和出口;惰性气体源,通过进气阀连接在所述循环管道的入口处;冷水机水箱,通过进水阀连接在所述循环管道的入口处;以及与所述加热器、进气阀和进水阀电连接的控制单元,当需要对所述基片加热时,打开所述进气阀且保持所述进水阀关闭;当需要对所述基片进行降温时,打开所述进水阀且保持所述进气阀关闭。本实用新型基片控温系统可以对基片的温度进行控制。