本实用新型公开了一种一体式可旋转气相沉积基片加热装置,包括电机、与电机连接的磁耦合转轴,所述磁耦合转轴固定在法兰盲板上,磁耦合转轴转动带动同轴连接的齿轮转动,齿轮与旋转轴啮合,从而带动旋转轴转动,导电环和一体式加热板安装在旋转轴上,一体式加热板上安放了基片,法兰盲板上安装了电刷,电刷与供电电缆连接,电刷通过按压在导电环上为一体式加热板提供电源。本实用新型由于降低了基片与发热体间的温差,发热体只需要升温到基本与薄膜生长条件一致的温度就能满足薄膜的生长需要,降低了不必要的能耗,温差的消除同时还提高了测温的准确性,有利于对薄膜标准生长温度的准确限定与精确控制。