[00058911]WAlN硬质纳米结构薄膜及制备方法
技术详细介绍
本文发明公开了一种WAlN硬质纳米结构薄膜及其制备方法，其特征在于是该薄膜厚度1-3um，含有W、Al、N元素，其中W含量为60at.％-100at.％且不等于100at.％，Al含量为0at.％-40at.％且不等于0，N元素以CrN过渡层的形式存在。是以高纯W靶和Al靶为靶材，采用双靶共焦射频反应法在硬质合金或陶瓷基体上沉积获得，沉积时，真空度优于3.0×10-3Pa，以氩气起弧，氮气为反应气体，氩氮流量比10:(6-15)，溅射气压0.3Pa。该方法生产效率高，所得薄膜兼具高硬度和优异的摩擦性能，可作为高速、干式切削的纳米结构硬质薄膜。
