本发明公开了一种采用溅射法制备柔性无胶双面覆铜箔的方法,首先准备聚酰亚胺薄膜,采用去离子水清洗,干燥后采用电晕或等离子处理;然后将处理后的薄膜放入磁控溅射镀膜室,抽真空后充入氩气,调整气压并清洗薄膜表面,再继续抽真空并调整工作电压,溅射占空比30-70%,开始进行镀膜;当铜层的厚度达到1-12微米,则可关闭系统,取出铜-聚酰亚胺-铜的复合膜,即柔性无胶双面覆铜箔;最后对覆铜箔进行退火处理。本发明的方法制备的覆铜箔仅包含3层,无胶层,具有优异的高温性能、尺寸稳定性能;该覆铜箔可以做的很薄,最薄可以做到8微米以下,大大减少消费电子产品的厚度。本方法中的铜层不需要经历涂布、压合等工艺过程,产品良率高。