摘要:本发明公开了一种磁隧道结及其制备方法。磁隧道结包括第一电极层,以及依次形成在第一电极层上的第一磁性层、绝缘隧穿层、第二磁性层和第二电极层;第一磁性层和第二磁性层至少其中之一为CoFe(R)/FePt结构;CoFe(R)/FePt结构由CoFe(R)层和FePt层叠加而成,CoFe(R)层较FePt层靠近所述绝缘隧穿层;CoFe(R)层的材料为掺入R的CoFe,R为B、Al和Ni至少其中之一。本发明的磁隧道结能兼顾器件的小尺寸化、高热稳定性及与CMOS工艺的兼容性,因而能广泛应用于传感器、存储装置和逻辑计算装置中。