[00060016]VCN硬质纳米结构薄膜及其制备方法
技术详细介绍
本发明公开了一种VCN硬质纳米结构薄膜及其制备方法，是在室温下，采用高纯的V靶和C靶为靶材，双靶共焦射频反应溅射法沉积在基体上得到的。沉积时，以氩气起弧，氮气为反应气体，氩氮气流量比为10sccm：7sccm,基体的旋转速度为3r/min，工作气压为0.3Pa，背底真空度<6.0×10‑4Pa,溅射时间为3h。所得薄膜厚度为1.8～2.6um，C元素含量在0at.％‑21.2at.％之间，VCN复合膜为面心立方结构，择优取向为(111)，薄膜的最高硬度为28.1GPa，干切削实验下，最低摩擦系数为0.3824，最低磨损率1.17×10‑8mm3·N‑1mm‑1。
