[00060017]TiWAlN硬质薄膜及制备方法
技术详细介绍
本文发明公开了一种TiWAlN硬质薄膜及其制备方法，是以高纯Ti靶、W靶、Al靶为靶材，采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上的，薄膜分子式表示为Ti(W，Al，N)，厚度在1‑3μm；沉积时，真空度优于3.0×10‑5Pa，以氩气起弧，氮气为反应气体进行沉积，溅射气压0.3Pa，氩氮流量比10:(1‑3)；Ti靶溅射功率230‑280W，W靶溅射功率80‑100W，Al靶溅射功率为0‑100W。所得硬质涂层综合具备了高硬度，高耐磨性的优良特点。
