[00060018]NbN-Ag硬质薄膜及制备方法
技术详细介绍
本发明涉及NbN-Ag硬质薄膜及其制备方法，其特征在于硬质薄膜分子式为NbN-Ag，厚度为1～5μm，Ag含量为0～50at.％且大于0；是以高纯Nb靶和Ag靶为靶材，利用双靶共焦射频反应法在硬质合金或陶瓷基体上沉积得到，沉积时，真空度<3.0×10-3Pa，以氩气起弧，氮气为反应气体进行沉积；溅射气压0.3Pa、氩氮流量比10:(1～10)；Nb靶溅射功率100～500W，Ag靶溅射功率0～150W。本发明具有高的生产效率，所得薄膜具有高硬度和优异的摩擦磨损性能，可作为高速、干式切削的结构硬质薄膜。
