[00060021]TaCN硬质纳米结构薄膜及制备方法
技术详细介绍
本文发明公开了一种TaCN硬质纳米结构薄膜，其特征在是采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上的，薄膜分子式表示为Ta(C，N)，厚度在1‑3μm。沉积时，真空度优于3.0×10‑3Pa,以氩气起弧，氮气为反应气体进行沉积，溅射气压0.3Pa、氩氮流量比10:（2‑5），Ta靶溅射功率80‑150W，C靶溅射功率0‑80W。所得硬质涂层综合具备了高硬度，高耐磨性的优良特点。
本文发明公开了一种TaCN硬质纳米结构薄膜，其特征在是采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上的，薄膜分子式表示为Ta(C，N)，厚度在1‑3μm。沉积时，真空度优于3.0×10‑3Pa,以氩气起弧，氮气为反应气体进行沉积，溅射气压0.3Pa、氩氮流量比10:（2‑5），Ta靶溅射功率80‑150W，C靶溅射功率0‑80W。所得硬质涂层综合具备了高硬度，高耐磨性的优良特点。
