[00060029]铌-钒-硅-氮纳米硬质薄膜及制备方法
技术详细介绍
铌-钒-硅-氮纳米硬质薄膜及制备方法，所述薄膜采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上制备得到，以Nb为过渡层，薄膜中Si相对含量(Si/(Nb+V+Si))在10-13at.％，V相对含量(V/(Nb+V+Si))在0-17.6at.％之间；薄膜由固溶体Nb-V-Si-N及非晶Si3N4构成；所述薄膜厚度在2-3μm；所述薄膜硬度29～35GPa，膜基结合力4.2～9.8N，所述薄膜断裂韧性1.1～1.7MPa.m1/2。本发明克服了现有二元NbN及三元Nb-Si-N纳米结构复合膜力学与高温摩擦磨损性能不理想等缺点，具有较高生产效率，兼具高硬度和优异的摩擦性能，可作为减摩纳米结构硬质薄膜。
