[00060031]TiWCN硬质薄膜及制备方法
技术详细介绍
本发明公开了一种TiWCN硬质薄膜及制备方法，其特征在于该薄膜是采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上的，薄膜分子式表示为Ti(W，C，N)，厚度在1-3μm。沉积时，真空度优于3.0×10-5Pa时，以氩气起弧，氮气为反应气体进行沉积，溅射气压0.3Pa，氩氮流量比10:(1-3)。Ti靶溅射功率230-280W，W靶溅射功率为80-100W，C靶溅射功率为0-120W。所得硬质涂层综合具备了高硬度，高耐磨性的优良特点。
