[00060032]TaVCN硬质纳米结构薄膜及制备方法
技术详细介绍
本文发明公开了一种TaVCN硬质纳米结构薄膜及其制备方法，其特征在于是该薄膜采用多靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上制备得到，薄膜分子式为(Ta,V)CN，厚度在1-3μm，V含量为0-40at.%。沉积时，真空度优于3.0×10-3Pa,以氩气起弧，氮气为反应气体进行沉积，溅射气压0.3Pa、氩氮流量比10:（2-5），Ta靶功率为80-150W，C靶功率为40-60W，V靶功率为0-100W。所得硬质涂层综合具备了高硬度，高耐磨性的优良特点。
