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摘要:本发明公开了一种用X射线进行单粒子软错误的试验方法,包括如下步骤对SRAM试验器件加载低于正常电压的偏置电压;对SRAM试验器件进行X射线辐射,记录试验数据;以及根据试验数据计算偏置电压下对应的单粒子翻转截面。本发明通过使用X射线进行单粒子软错误的试验方法证实了纳米级器件在X射线辐照过程中,所产生的次级电子,可以导致器件发生翻转,相比于以前的研究,对纳米级器件的单粒子效应的研究,增加了一种地面模拟源,相比于其它辐射源,具有剂量率控制准确、辐照易于屏蔽、无辐射残留,机时容易获得的优点。