[00062049]一种利用共混聚合物相分离制备纳米结构的方法
技术详细介绍
本发明公开了一种利用共混聚合物相分离制备纳米结构的方法，具体的制备步骤如下：a)将聚苯乙烯和含硅的紫外光固化胶以一定比例溶解在甲苯中，待充分溶解形成共混相分离溶液；b)将共混相分离溶液以一定转速旋涂在衬底表面，发生相分离，得到共混薄膜；c)对共混薄膜进行紫外光固化处理，曝光时间为5‑10分钟；d)利用反应离子刻蚀技术，用O2等离子体在一定流量和一定功率下刻蚀除去共混薄膜中的聚苯乙烯，留下含硅的紫外光固化胶相，即可得到纳米结构。本发明的方法具有操作简单、容易实现以及成本低等优点，其制备的薄膜可以应用在纳米压印模板、表面增强拉曼散射衬底以及减反材料等方面，应用前景广阔。
