[00063194]一种可屏蔽紫外线的高分子膜
技术详细介绍
本发明公开了一种可屏蔽紫外线的高分子膜，原料包括基体材料、紫外吸收剂、抗氧化剂和溶剂，所述紫外吸收剂为金属氧化物，所述原料还包括蒙脱土、累托石或两者的混合物。本发明以金属氧化物作为紫外吸收剂，并配合蒙脱土、累托石或两者的混合物制备可屏蔽紫外线的高分子膜，使得该高分子膜在保持可见光透性的基础上，提高了紫外光的屏蔽能力，成为新一代紫外屏蔽能力强的透明紫外屏蔽保护膜。
本发明公开了一种可屏蔽紫外线的高分子膜，原料包括基体材料、紫外吸收剂、抗氧化剂和溶剂，所述紫外吸收剂为金属氧化物，所述原料还包括蒙脱土、累托石或两者的混合物。本发明以金属氧化物作为紫外吸收剂，并配合蒙脱土、累托石或两者的混合物制备可屏蔽紫外线的高分子膜，使得该高分子膜在保持可见光透性的基础上，提高了紫外光的屏蔽能力，成为新一代紫外屏蔽能力强的透明紫外屏蔽保护膜。
