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[00063521]一种GaAs半导体表面欧姆接触电极及其制作方法

交易价格: 面议

所属行业: 其他电气自动化

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201710547365.X

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 西安交通大学

进入空间

所在地: 陕西西安市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

本发明公开了一种GaAs半导体表面欧姆接触电极及其制作方法,首先通过在GaAs半导体表面做接触电极,然后再在石英衬底上依次生成Cu层和Au层,将石英衬底上的Au层与GaAs上接触电极的接触层通过退火粘合封装在一起,然后抛光去除石英衬底,即可得到GaAs欧姆接触电极,通过在石英衬底上以铜层为过渡层,进行金层的制作,克服了金层与石英衬底难键和的问题,完成加厚金层的单独支座,克服了金层通过磁控溅射、真空蒸发方法很难制备出易于键合的微米级厚度的金层的问题,因此将加厚金层单独用电镀的方法来制作,通过本方法制作的GaAs接触电极使得器件可以非常容易地键合到电路中测试使用,器件可以工作在更高的温度,得到更好的器件性能表现。

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