X为了获得更好的用户体验,请使用火狐、谷歌、360浏览器极速模式或IE8及以上版本的浏览器
关于我们 | 帮助中心
欢迎来到天长市科技大市场,请 登录 | 注册
尊敬的 , 欢迎光临!  [会员中心]  [退出登录]
成果 专家 院校 需求
当前位置: 首页 >  科技成果  > 详细页

[00063834]一种氟掺杂的n型氧化亚铜半导体薄膜的制备方法

交易价格: 面议

所属行业: 专用化学

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201510288549.X

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 华中师范大学

所在地: 湖北武汉市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

摘要:本发明涉及一种氟掺杂的n型氧化亚铜半导体薄膜的制备方法,其特征在于配制二价铜离子盐的酸溶液,调节溶液的pH值为弱酸性,作电解液,在电解液中加入氟的前驱物溶液,然后利用三电极系统,以清洗干净的导电玻璃为工作电极,Pt片为对电极,饱和KCl的Ag/AgCl电极为参比电极,恒电压沉积,制备氟掺杂的n型氧化亚铜半导体薄膜。这种氟掺杂的氧化亚铜薄膜是n型半导体,拥有独特的多孔网状结构,并且表现出很好的光电性能。本发明提供的制备方法步骤简单,操作简易,反应条件温和,环境友好。通过简单的电化学沉积制备方法得到的高性能的氟掺杂的n型氧化亚铜薄膜将在同质结半导体太阳能电池上有广泛的应用。

推荐服务:

Copyright  ©  2019    天长市科技大市场    版权所有

地址:滁州高新区经三路

皖ICP备2023004467