交易价格: 面议
所属行业: 其他新材料技术
类型: 发明专利
技术成熟度: 正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201611056024.4
交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股
联系人: 科小易
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所在地: 辽宁大连市
本发明公开了一种高强度光子晶体膜及其制备方法,属于新材料制备领域。 该高强度光子晶体膜将包含单分散纳米微球的分散液滴加在部分干燥的聚合物膜表面,随着溶剂的挥发,在微球自组装为光子晶体的同时将聚合物引入微球缝隙中形成连续结构,一步制得高强度光子晶体膜。该方法不仅过程简单安全,同时可以将光子晶体与生产实践中应用性能优良的聚合物材料直接复合,高强度光子晶体膜实现功能性光子晶体膜的制备,方法扩展性强,在显示、传感、装饰等器材上具有广阔的应用前景。
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