[00064757]原位中子衍射用对顶砧高压装置
技术详细介绍
摘要：本发明公开了一种原位中子衍射用对顶砧高压装置，主要包括框架、位于框架内由压头和腔体座构成的内压腔、位于内压腔内分别设置在压头和腔体座上砧面相对的压砧、位于两压砧之间的封垫和加载系统，两压砧和位于它们之间的封垫构成样品高压密封腔，内压腔设计有中子束入射光通道和衍射光窗口，所述加载系统设计有两级加载子系统，一级加载子系统为成对对称设置的螺纹副机械加载系统，二级加载子系统由设置在框架上的油缸和作用于内压腔的活塞构成，高压装置通过其框架悬挂在与中子堆源平台相配套的悬挂装置下方。本发明具有压砧兼容性好，能在实验台上对实验样品加载施压，加载压力能长时间保持，实验人员可远离实验台进行实验操作，安全性高。
