本发明属于半导体领域,公开了一种半导体图形衬底的制造及外延的方法,通过将蓝宝石等衬底生长一层氧化锌ZnO;然后制作成蒙古包一样的ZnO图形,露出蓝宝石;然后用物理气相沉积PVD等物理方法生长AlN保护层;通过高温氢气或氨气把保护层下的ZnO反应掉或部分反应掉,留下来的AlN为中空的蒙古包。本发明大大缓冲了AlGaInN与蓝宝石之间的热应力,这样就减少了蓝宝石与AlGaInN之间的膨胀系数差异引起的应力,可以大大减少AlGaInN的位错从而提高晶体质量,可以代替GaN单晶衬底,达到降低芯片制造成本,有利于AlGaInN基LED、电子及微波器件的民用。