摘要:一种具有拉曼增强性质的一维至三维纳米间隙阵列及其制备方法,属于材料科学领域。本方法涉及到纳米切割技术、物理气相沉积技术以及一些光刻和刻蚀方面的技术。整个过程操作简便,过程低耗清洁,可控性高。通过控制沉积间隔层的厚度,可以制备一系列不同尺寸的一维纳米间隙。结合光刻技术,可以制备具有高集成性的二维纳米间隙阵列,提高器件的制备效率;在此基础上,叠加两层或者多层二维纳米间隙阵列可以得到新颖的三维立体化的纳米间隙阵列,具有更高的集成度和更强的等离子体共振性质,进而产生更为稳定清晰的拉曼信号,可以更好的运用到实际应用中。