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[00068583]一种具有单原子厚度的单层g-C3N4纳米材料的制备方法

交易价格: 面议

所属行业: 无机非金属材料

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201410082698.6

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 西北大学

所在地: 陕西西安市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

摘要:本发明公开了一种具有单原子厚度的单层g-C3N4光催化材料的制备方法:步骤1:室温下,将块状g-C3N4研磨至粉状,加入到酸溶液或者碱溶液中,搅拌均匀后静置;步骤2:将步骤1所得溶液再次搅拌均匀后进行超声处理,待沉淀完全后去上清液,用去离子水冲洗pH至6~8;烘干并研磨,加入到有机溶剂中再次进行超声处理,待沉淀完全后去上清液;步骤3:将步骤2得到的g-C3N4用无水乙醇离心洗涤,即得到单层的g-C3N4。本发明制备工艺简单,重复性好,制备速度快。氙灯照射下,此光催化材料分解水制氢效率高,降解有机染料效果明显。本发明为g-C3N4光催化材料的制备及应用提供了新思路,拓宽了光催化材料的研究范围。

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