摘要:本发明适用于半导体器件领域,提供了GaN‑MoS2分波段探测器,包括GaN衬底;附在所述衬底一面上的GaN材料层;附在所述衬底的与所述GaN材料层相对的另一面上的MoS2材料层;置于所述GaN材料层和所述MoS2材料层上的电极组。本发明提供的GaN‑MoS2分波段探测器为单片集成结构,包括分别置于衬底两面的GaN材料层和MoS2材料层,所述探测器结构合理地将宽禁带GaN和窄禁带的二维材料MoS2结合在一起,最终实现了光子的分波段吸收探测。本发明还提供了所述GaN‑MoS2分波段探测器的制备方法,包括以下步骤制备GaN材料层;制备MoS2材料层;加工电极组。本发明所提供的制备方法,过程简单易行,便于工业化生产。