[00072042]一种高致密ZrC陶瓷靶材的制备方法
联系人： 武汉理工大学
所在地： 湖北武汉市
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技术详细介绍
摘要：本发明公开了一种高致密ZrC陶瓷靶材的制备方法，该方法是：将装有ZrC微粉的石墨磨具放入等离子活化烧结炉的腔体中，在氩气气氛下以150～300℃/min的升温速率升温至1800～1900℃，保温4～6分钟，施加10～30MPa的轴向压力；然后试样随炉冷却至室温，获得所述ZrC陶瓷靶材。本发明中制备的ZrC陶瓷靶材物相单一、尺寸大，而且在不掺加任何烧结助剂的情况下依然有着较高的致密度(>94％)，应用前景十分广阔。
