交易价格： 面议
所属行业： 其他化学化工
类型： 发明专利
技术成熟度： 正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201610415195.5
交易方式： 完全转让 许可转让 技术入股
联系人： 四川大学
进入空间
所在地： 四川成都市
本发明公开了一种氧氯化铈宽禁带半导体材料的用途及其制备方法，所述用途为在制作蓝紫光发光器件中的应用，其化学组成式为CeOCl，空间群为P4/nmm，其晶胞参数为
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