[00074501]一种基于纳米压印的图形转移制备光栅的方法
联系人： 武汉理工大学
所在地： 湖北武汉市
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技术详细介绍
摘要：本发明属于光学薄膜微纳结构制备技术领域。一种基于纳米压印的图形转移制备光栅的方法，其特征在于包括有以下步骤：1）基片上聚合物的涂布；2）压模模板的制备；3）压印过程：把涂敷聚合物的基片及压模模板安装到压印机的两个压印盘上，加热到聚合物玻璃态相变点温度附近时，加压，使聚合物充满压模图案，然后进行冷却；当温度降到相变点附近时，将压模模板与基片分开，得到聚合物掩模槽型；4）微纳图形转移：直接利用电子束蒸发法将所需光栅脊材料填充进聚合物掩模槽型中，利用光控膜厚技术监控沉积厚度，再用有机溶剂溶解聚合物花纹，形成与掩模互补的光栅结构，得到基于纳米压印的图形转移制备光栅。该方法制备工艺简单，生产成本低。
