[00074596]一种用于原子层沉积制备石墨烯薄膜的碳化学吸附方法

交易价格： 面议

所属行业： 合成化学

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201010546604.8

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：科小易

所在地：浙江嘉兴市

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技术详细介绍

本发明涉及石墨烯的制备技术，具体涉及一种用于原子层沉积制备石墨烯薄膜的碳化学吸附方法，通过形成一种含有碳原子且碳原子具有未成键电子的物质，与衬底表面原子形成共价键，实现稳定的化学吸附。本发明应用于原子层沉积技术制备石墨烯薄膜，该吸附方法简单易行，能够实现稳定的碳化学吸附。