一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔,包括腔体,所述腔体上开有进出片口、机械泵接口、下电极接口、分子泵接口,所述腔体的上端安装有顶盖和石英盖,所述腔体内安装有匀气盘、穿过腔体底部和匀气盘的工艺气体管道,所述工艺气体管道的气体出口设置在匀气盘上方并正对匀气盘中心;所述匀气盘的中间开有大于下电极直径的下电极通口,所述匀气盘上开有多个通气孔,横向上相邻所述通气孔的间距是等差数列递增,纵向上相邻所述通气孔的间距从中心到边缘是等差数列递减。本实用新型的有益效果:等离子体密度最大、均匀性最好、能量最高;成本低、可靠性高。