本发明公开了一种基于自组装工艺的高质量单晶金刚石生长方法,按照以下步骤实施步骤一、将纳米二氧化硅颗粒分散到酒精、异丙醇或者丙酮溶液中,制备得到纳米二氧化硅分散液;步骤二、将分散液滴到单晶金刚石衬底表面,通过旋涂使其在单晶金刚石衬底表面均匀分散;步骤三、通过反应离子刻蚀技术,刻蚀单晶金刚石衬底表面的纳米二氧化硅,形成自断裂的二氧化硅掩膜,使单晶金刚石衬底表面部分裸露;步骤四、通过在裸露的单晶金刚石衬底表面进行金刚石同质外延生长,并在二氧化硅掩膜上进行金刚石横向生长,即在衬底上生长出单晶金刚石薄膜,解决了现有采用同质外延生长法制备金刚石薄膜质量偏低的问题。