[00076328]一种可以连续生长的提拉法晶体生长装置
技术详细介绍
本实用新型涉及一种可以连续生长的提拉法晶体生长装置，包括提拉装置，晶体生长装置，整个晶体生长装置位于一个上部开口的炉腔中，炉腔外有炉壁(15)保护。生长坩埚(12)所在的生长炉和化料坩埚(8)所在的化料炉的温度是独立控制的。连通器(11)外壁有加热装置和保温层，其加热装置独立控温。通道(13)有加热装置和保温层，其加热装置独立控温。晶体从生长炉(12)转移到退火炉(14)的通道(13)有合适的温度场，以保证晶体在转移过程中不会受到热冲击，通道(13)的两端有耐高温的阀门，在没有转移晶体的时候门要关闭，以保证通道不会对退火炉(14)和生长炉(12)的温度场产生明显影响。退火炉(14)独立控温，以保证晶体在退火炉(14)中按照合适的退火程序退火，获得质地完好的晶体。
