X为了获得更好的用户体验,请使用火狐、谷歌、360浏览器极速模式或IE8及以上版本的浏览器
关于我们 | 帮助中心
欢迎来到天长市科技大市场,请 登录 | 注册
尊敬的 , 欢迎光临!  [会员中心]  [退出登录]
成果 专家 院校 需求
当前位置: 首页 >  科技成果  > 详细页

[00076458]一种采用原位磁场来调控原子层沉积薄膜磁性的方法

交易价格: 面议

所属行业: 化工生产

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201710405411.2

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 西安交通大学

进入空间

所在地: 陕西西安市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

本发明公开了一种采用原位磁场来调控原子层沉积薄膜磁性的方法,目的在于,制备的Fe3O4薄膜的磁各向异性明显,具有更高的矫埦场,且Fe3O4薄膜表面形貌均匀,粗超度小,所采用的技术方案为,包括1)将洁净的基片放置在永磁体的磁极上,并将基片和永磁体置于真空反应腔体中加热备用,且加热温度小于永磁体的居里温度;2)以二茂铁蒸汽作为铁源,以氧气作为氧源,将二茂铁蒸汽和氧气交替脉冲送入真空反应腔体中,对基片进行若干次原子层沉积循环,直至基片的表面上均匀沉积有保形的Fe3O4薄膜;3)向真空反应腔体中充入惰性气体,待基片自然冷却至室温后取出。

推荐服务:

Copyright  ©  2019    天长市科技大市场    版权所有

地址:滁州高新区经三路

皖ICP备2023004467