[00079242]一种一维激光扫描测头装置
技术详细介绍
本实用新型涉及一种一维激光扫描测头装置，包括用于发射第一激光束的第一激光源，用于将第一激光束反射至测球的激光反射平面，并将测球的激光反射平面反射的激光束透射至第一光电探测器的分光镜，处理器根据第一光电探测器所接收到的激光束的位置变化值，得到测杆的变形量，同时包括用于测量测量基座一维位移变化的测量组件，所述测量组件包括第二激光源和第二光电探测器。本实用新型实施例提供的一维激光扫描测头装置，不仅可以测量支撑座的直接位移变化，还可以测量测杆的变形，因此与传统的一维测头装置相比，本实用新型实施例提供的一维激光扫描测头装置的测量精度更高，且结构简单，易于批量生产。
