本[发明专利]公开了一种抗铝毒豌豆幼苗培植方法,其包括如下工艺步骤:1)雾培:豌豆种子用7.5%的次氯酸钠浸泡,用无菌超纯水清洗5~6次,然后在24℃黑暗条件下用浓度为0.5mmol/L的CaCl2溶液浸泡8h后雾化培养,得豌豆幼苗;2)水培:豌豆幼苗雾培至根长为2~3cm时,将豌豆转移到装有霍格兰氏营养液的不透明塑料烧杯中进行培植,加入pH=7.0的浓度为0.005mg/mL的聚二烯丙基二甲基氯化铵溶液,充分吸附,后加入pH=5.5的浓度为50mM/L的硅溶液,充分吸附,再用pH=4.5的浓度为0.5mmol/L的CaCl2溶液进行适应性处理,水培周期为6天。本[发明专利]通过调整豌豆幼苗的培植方法,引入化学修饰法,使得豌豆幼苗根边缘细胞表面沉积有纳米二氧化硅层,从而赋予豌豆幼苗优异的抗铝毒能力。