[00080506]一种纳米多孔薄膜闭孔孔隙率的测量方法
技术详细介绍
本[发明专利]公开了一种纳米多孔薄膜闭孔孔隙率的测量方法，包括以下步骤：采集基于慢正电子束的湮没辐射能量谱；计算待测薄膜的线型参数S和W；作出该系列的待测薄膜的S‑W曲线以判断其是否为相同的闭孔结构；再根据薄膜闭孔孔隙率Vp与S参数之间的线性关系估算出待测样品的孔隙率。本[发明专利]公开的测量方法不仅能检测到闭孔孔隙率等孔结构信息，且检测过程无需将样品薄膜从衬底上剥离，避免了采用传统技术需要剥离制样使得在剥离过程中损坏了薄膜中的介孔结构，提高了测量结果的准确性和样品重复利用率。
