[00082912]AAO基光子晶体太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法
技术详细介绍
本[发明专利]所述AAO基光子晶体太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法，包括以下步骤：1)用砂纸对铝合金基材打磨干净，放入碱洗液中碱洗4～6min，碱洗温度：60～70℃，冲洗干净后，放入酸洗液中酸洗3～5min，水冲洗干净后备用；2)铝合金基材放入H2SO4的电解液中做周期性变电压氧化，且阴极板采用石墨板；3)阳极氧化模板用蒸馏水水洗后吹干，放入100～110g/L H3PO4溶液中交流扩孔，处理时间：3min；4)试样用超纯水冲洗后，放入在以NiSO4·6H2O和CuSO4·5H2O为主盐的沉积液中进行交流电沉积。该吸收涂层在300～2500nm范围内有较高的吸收率，在3300～25000nm范围内有较低的红外发射率。材料来源较为广泛、涂层结合力牢固，生产成本较低，可以应用太阳能热水器等吸热材料。
