[00085192]一种制备氧化钒薄膜的溅射设备
技术详细介绍
本实用新型公开了一种制备高重复性氧化钒薄膜的溅射设备，它包括溅射腔室，溅射腔室上设有进气管，它还包括通过进气管与溅射腔室连接的配气室。本实用新型通过溅射腔室连接配气室，在镀膜过程中从配气室内引气，确保在镀膜过程中维持溅射腔室内氧气分压恒定，进而制备出高重复性的氧化钒薄膜，提高所制备氧化钒薄膜的批次间的一致性，满足氧化钒焦平面探测器批量生产需要。
本实用新型公开了一种制备高重复性氧化钒薄膜的溅射设备，它包括溅射腔室，溅射腔室上设有进气管，它还包括通过进气管与溅射腔室连接的配气室。本实用新型通过溅射腔室连接配气室，在镀膜过程中从配气室内引气，确保在镀膜过程中维持溅射腔室内氧气分压恒定，进而制备出高重复性的氧化钒薄膜，提高所制备氧化钒薄膜的批次间的一致性，满足氧化钒焦平面探测器批量生产需要。
