[00087160]一种双离子束反应溅射沉积设备和制备氧化钒薄膜的方法
技术详细介绍
本发明涉及一种改进的双离子束反应溅射沉积设备，该设备添加了多通道的闭环控制系统和RGA反馈控制装置，提高了反应气体的流量控制精度，并稳定了反应气体氧的分压，保证沉积氧化钒(VOx)薄膜方块电阻、厚度和TCR等参数的稳定性和重复性；另外，氧气从腔室的辅源通入，消除了靶材与氧反应造成“靶中毒”的风险，提高了靶的使用寿命和设备的利用率。以及应用此设备制备氧化钒薄膜的方法，其方法为：首先对衬底圆片进行离子铣；其次使用改进的双离子束反应溅射沉积的方法制备氧化钒薄膜。
