本发明公开了一种绝热性能良好的多孔硅基氧化钒薄膜及制备方法,属于氧化钒薄膜热敏电阻技术。所述的多孔硅基氧化钒薄膜,包括单晶硅基层、多孔硅层、二氧化硅层和氧化钒薄膜层。制备过程包括:将单晶硅片依次在浓硫酸、去离子水、丙酮、乙醇中清洗;在氢氟酸与无水乙醇的混合液中电化学腐蚀,腐蚀后用去离子水洗涤,制得多孔硅层;在等离子体化学气相沉积设备中在多孔硅层表面生成二氧化硅层;利用磁控溅射方法在二氧化硅/多孔硅衬底上,溅射得到绝热性能良好的多孔硅基氧化钒薄膜层,从而得到绝热性能良好的多孔硅基氧化钒薄膜本发明的优点在于,工艺条件容易控制,制得的薄膜致密,与衬底粘附性好,面积大且均匀,具有良好的绝热性能。