交易价格: 面议
所属行业: 其他
类型: 发明专利
技术成熟度: 正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201010508505.0
交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股
联系人: 四川钒钛产业技术研究院
进入空间
所在地: 四川攀枝花市
本发明公开了一种硫钒铜矿结构的多晶体材料及其应用。通过真空固相合成法可制备这类材料的多晶体粉体,通过脉冲激光沉积技术可制备这类材料的多晶体薄膜。这类半导体材料属于立方晶系, 空间群,具有硫钒铜矿结构。这类材料是p型半导体,具有各向同性的优点,有较大的光吸收系数,易于合成和制备成多晶薄膜,且部分材料的价格低廉,可以用做太阳能光伏电池的吸收层材料。
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