联系人: 中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
所在地: 江苏苏州市
摘要:本发明公开了一种Ⅲ族氮化物增强型HEMT器件及其制作方法。该器件包括源、漏、栅电极以及异质结构,源、漏电极通过形成于异质结构中的二维电子气电连接,异质结构包括第一、第二半导体,第二半导体具有宽于第一半导体的带隙,第一半导体设置于源、漏电极之间,栅电极设于第二半导体表面,第二半导体内还包含P型掺杂区,P型掺杂区分布于栅电极下方但在第一半导体上方,栅电极包括:与第二半导体形成肖基特接触的、作为离子注入能量吸收层的第一栅电极材料层,以及叠设在第一栅电极材料层上的第二栅电极材料层。本发明可以有效的实现增强型HEMT器件,并且器件的阈值电压可以通过注入的离子剂量而调节,制作工艺简单、重复性好,适合工业化生产。