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[00095368]一种多孔GaN的制备方法

交易价格: 面议

所属行业: 纳米及超细材料

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:201310169136.0

交易方式: 许可转让

联系人: 中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

所在地: 江苏苏州市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

本发明涉及一种多孔GaN材料的制备方法,该方法包括以下步骤:步骤S1、将K2S2O8溶解于去离子水或纯净水中,配制浓度为0.0001mol/L-2mol/L的K2S2O8溶液;步骤S2、在K2S2O8溶液中加入NaOH或KOH,配制pH值大于7的混合溶液;步骤S3、将GaN材料置于混合溶液中,用紫外光源照射GaN材料,获得多孔GaN材料。本发明利用极其廉价的光化学技术在GaN材料表面上产生纳米级孔洞,通过锁相放大器等微小电信号测试设备可以将GaN材料电阻率的微小变化检测出来,从而发展高灵敏度的气敏传感器。

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