本发明公开了一种在基片水平方向可控生长碳纳米管束的方法,属于纳米材料制备技术领域。该方法包括如下步骤:(1)在第一片基片表面加工出水平方向的微纳通道;(2)在微纳通道底部的一端沉积催化膜,并对其进行图形化;(3)采用键合工艺将第二片基片覆盖在微纳通道上方;(4)在第二片基片上刻蚀出与微纳通道连通的通气孔,形成半封闭式微纳通道;(5)在半封闭式微纳通道内生长碳纳米管束;(6)除去第二片基片、通气孔中的碳纳米管及其碳纳米管束四周的基片,即在基片水平方向得到与微纳通道尺寸一致的碳纳米管束。其优点是:在基片水平方向上可获得取向、尺寸、位置精确可控的碳纳米管束;工艺过程简单,易于实现,用途广泛。